내년까지 2800만 달러 투입…핵심 소재·부품 脫일본화 본격화

세계 최대 종합화학기업 미국 듀폰이 극자외선(EUV)용 포토레지스트 생산시설을 국내에 짓는다.

반도체 기판에 발라 패턴을 형성하는 공정에 쓰이는 포토레지스트는 일본산 수입 의존도가 90%에 육박하는 반도체 핵심 소재다. 이르면 내년부터 듀폰의 국내 공장에서 포토레지스트 조달이 가능해 탈일본화에 큰 도움이 될 것으로 기대된다.

9일 산업통상자원부에 따르면 성윤모 장관은 8일(현지시간) 미국 실리콘밸리에서 존 켐프 듀폰 사장을 만나, 포토레지스트 개발·생산 시설을 충남 천안에 짓기로 확정했다. 이에 따라 듀폰은 내년까지 2800만 달러(약 324억 원)를 투자하겠다는 신고서를 코트라에 제출했다.

이번 협상으로 듀폰은 오는 2021년까지 투자를 완료한다. 충남 천안에 EUV용 포토레지스트 및 화학기계연마(CMP) 패드 개발·생산 시설을 구축한다. 산업부는 관련 제품의 원재료를 국내에서 조달하는 내용의 협상도 진행 중이다.

듀폰은 지난 1998년부터 한국 내 자회사 롬엔드하스전자재료코리아의 천안 공장을 통해 포토레지스트를 생산해왔다. 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF)용이다. 반도체 공정 미세화에 따라 EUV 시장이 확대되면서, 투자를 결정했다.

성 장관은 "일본이 포토레지스트 수출 규제를 완화하는 조치를 취했지만 양국 수출 갈등의 근본적인 해결책으로 보기는 어렵다"며 "앞으로도 핵심 소재·부품·장비에 대한 공급선 다변화를 계속 추진할 것"이라고 말했다.

KPI뉴스 / 이종화 기자 alex@kpinews.kr

[ⓒ KPI뉴스. 무단전재-재배포 금지]